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  • 1200℃滑動(dòng)式三溫區(qū)CVD系統(tǒng)(1).jpg
  • 1200℃滑動(dòng)式單雙溫區(qū)CVD系統(tǒng).jpg

1200℃滑動(dòng)式單、雙、三溫區(qū)CVD系統(tǒng)

產(chǎn)品用途:此款CVD系統(tǒng)適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測(cè)試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長(zhǎng)、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結(jié)真空淬火退火,快速降溫等工藝實(shí)驗(yàn)。

關(guān)鍵詞:

CVD系統(tǒng)

圖片名稱(chēng)

銷(xiāo)售熱線(xiàn):

  • 產(chǎn)品描述
  • 技術(shù)參數(shù)
  • 聯(lián)系我們
    • 商品名稱(chēng): 1200℃滑動(dòng)式單、雙、三溫區(qū)CVD系統(tǒng)
    • 商品編號(hào): 1034429691655446528

    產(chǎn)品用途:此款CVD系統(tǒng)適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測(cè)試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長(zhǎng)、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結(jié)真空淬火退火,快速降溫等工藝實(shí)驗(yàn)。

    銷(xiāo)售熱線(xiàn):15122725930 

     

    產(chǎn)品用途:

    此款CVD系統(tǒng)適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測(cè)試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控

    生長(zhǎng)、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結(jié)真空淬火退火,快速降溫等工藝實(shí)驗(yàn)。

     

    產(chǎn)品組成:

    CVD系統(tǒng)配置:

    1.1200度開(kāi)啟式真空管式爐(可選配多溫區(qū))。

    2.滑動(dòng)系統(tǒng)分為手動(dòng)、電動(dòng)滑動(dòng),并配有風(fēng)冷系統(tǒng)。

    3.多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)

    4.真空系統(tǒng)(可選配中真空或高真空)    

     

    產(chǎn)品特點(diǎn):

    1 控制電路選用模糊PID程控技術(shù),該技術(shù)控溫精度高,熱慣性小,溫度不過(guò)沖,性能可靠,操作簡(jiǎn)單。

    2 氣路快速連接法蘭結(jié)構(gòu)采用本公司設(shè)計(jì),提高操作便捷性。

    3 中真空系統(tǒng)具有真空度上下限自動(dòng)控制功能,高真空系統(tǒng)采用高壓強(qiáng),耐沖擊分子泵,防止意外漏氣造成分子泵損壞,延長(zhǎng)系統(tǒng)使用壽命。

    4 (電動(dòng))滑動(dòng)系統(tǒng)采用溫度控制器自動(dòng)控制爐體移動(dòng),等程序完成,爐體按設(shè)定的速度滑動(dòng),因有滑動(dòng)限位功能爐體不會(huì)發(fā)生碰撞,待樣品露出爐體后,通過(guò)風(fēng)冷系統(tǒng)快速降溫。

    關(guān)鍵詞:
    • CVD系統(tǒng)
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